第704章 光刻机组装完成,碳基芯片制作开始！（第2 / 4页）

毕竟前面已经说过多次。

总之现在国际最巅峰的水平，也就是slma公司能量产4nm和5nm工艺的光刻机，而3nm工艺也勉强达到，但还没有进行普及，据说今年应该能实现量产。

可……

就算国外量产了3nm工艺又如何？

在3nm之上。

还有2nm，1。

5nm。

3nm工艺虽然距离1nm工艺只有2nm之差，却足足相差了三代。

三代需要时间多久？

即便一年一代，也起码要三年。

更何况一年一代根本不可能，往往每更新一代，都要好几年。

总之。

如果江南设计出来的器件图纸没问题，那东云在光刻机领域，不仅缩短三五十年之功，直追国际最巅峰水平。

更弯道超车，将slma公司吊打。

这对众人来说，绝对是一件不亚于开天辟地般的大喜事。

别的话就不多说了。

接下来几天。

整个云科院都疯狂动了起来。

相关领域内的所有人都在配合，所有人都在为光刻机的成产而付出努力。